勻膠鉻版光掩模基板 Photomask substrates詳細說明勻膠鉻版是一種硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是當前及未來微細加工光掩膜制作的主流感光材料（相當于照相用的感光膠卷）。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過直流磁控濺射（SP）沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版，再在其上涂敷一層光致抗蝕劑（又稱光刻膠）或電子束抗蝕劑制成勻膠鉻版。（勻膠鉻版是掩膜版的基材）特性：勻膠鉻版具有高的感光靈敏度、高分辨率、低缺點密度、耐磨性好、易清潔處理、使用壽命長等特點，二、應用產(chǎn)品廣泛應用于半導體集成電路芯片制造、集成電路高密度引線框架、半導體元器件、面板顯示器件、光學行業(yè)掩膜版、高密度印制線路板（PCB）行業(yè)等。