工廠低價(jià)轉(zhuǎn)讓2臺進(jìn)口原裝GENER-2350真空鍍膜機(jī)  真空室 Ф2350mm×H 1400mm基板架 Ф2200 mm，5⽚式基板架轉(zhuǎn)速 20rpm晶振式膜厚計(jì) 6點(diǎn)式⽔晶傳感器蒸發(fā)源 電⼦槍1臺，熱阻蒸離⼦源 RF離⼦源達(dá)到壓⼒ 7.0E-5Pa 以下排⽓時(shí)間 15分以下（⼤⽓壓〜2.0×10-3 Pa）設(shè)備尺⼨ 約6300mm (W) ×9000mm (D) ×4000mm (H)電源 3相,200v,50/60Hz, 約80KVA⽔流量 220升/分以上空⽓壓⼒ 0.5 - 0.7 MPa重量 約12000kg用途：此真空鍍膜機(jī)是鍍制防污膜（AS膜）及防反射膜+防污膜（AS+AS膜）的⼤型光學(xué)鍍膜機(jī)，應(yīng)⽤于智慧⼿機(jī)等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。為了提高鍍層厚度的均勻性，鍍在真空室中夾有行星機(jī)構(gòu)或旋轉(zhuǎn)運(yùn)動的裝置，如一個(gè)行星的運(yùn)動模式，運(yùn)動模式的膜均勻性好，鍍層的臺階覆蓋性能好，承載能力大，可充分利用有效空間的真空鍍膜室，是一個(gè)運(yùn)動的常用模式。排氣系統(tǒng)一般由機(jī)械泵，擴(kuò)散泵，管道和閥門組成。為了提高泵的流量，可以添加增壓器之間的機(jī)械泵和擴(kuò)散泵。因此，不僅在較短的時(shí)間內(nèi)低壓力以保證快速的工作循環(huán)的排氣系統(tǒng)，還需要確保氣體的蒸發(fā)源和蒸鍍工件表面產(chǎn)生快速的去除。蒸發(fā)系統(tǒng)包括電氣設(shè)備和加熱蒸發(fā)源蒸發(fā)源。電氣設(shè)備包括測量真空薄膜的厚度和控制