產(chǎn)品特點: 采用頻率為數(shù)十千赫茲的中頻電源，配備經(jīng)過嚴格磁路設(shè)計的孿生靶（對靶），可以避免“打火”、“陽極消失”、“靶中毒”等現(xiàn)象，提高了離化率、濺射速率，顯著提高沉積速度，適合做化合物薄膜（如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等）的沉積。中頻磁控離子鍍膜機在近幾年得到了迅猛的發(fā)展，在鐘表、眼鏡、五金等裝飾度領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。 技術(shù)參數(shù): 真空室箱體：主要規(guī)格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根據(jù)客戶具體要求設(shè)計非標產(chǎn)品。 夾具方式：采用公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu)，工件速度在1-15轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)。 控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計控制，進氣穩(wěn)定，反應(yīng)速度快。 靶：采用整體制造技術(shù)，嚴格縝密的磁場設(shè)計和磁路布局，濺射刻蝕均勻。 電源：配置有中頻電源（20KW、40KW等規(guī)格）、直流脈沖電源（電壓、占空比可調(diào)節(jié)），并可根據(jù)實際的情況加裝離子源等輔助設(shè)施。 抽氣系統(tǒng)：采用國產(chǎn)品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵，根據(jù)其真空室大小確定合理型號。也可以根據(jù)客戶的需要配備分子泵或者進口泵等。 抽真空參數(shù)：從大氣抽至5*10??Pa≤15min極限真空度8*10?4Pa。