耐熱鋼３１０Ｓ屬于低碳奧氏體不銹鋼，其中鎳和鉻元素質量分數較高，使得３１０Ｓ不銹鋼材質的零部件具有良好的耐高溫性能，能在高溫下作業(yè)，被廣泛應用于石油化工、能源、冶金等各個行業(yè)．現鎳、銅冶金吹煉噴****主要材料為耐熱鋼３１０Ｓ ，但由于冶煉爐內工作溫度高，同時伴有硫、氧等腐蝕性氣氛，容易發(fā)生熱腐蝕及氧化，導致噴槍損壞失效、使用壽命變短．研究表明，采用表面噴涂技術能有效解決關鍵部件的表面防護問題、提升基體材料的抗熱腐蝕性能。已有研究表明， ＺｒＢ２ 材料的高溫舒緩反應性能較差，加入一定量 ＳｉＣ （ ２５％ 體積分數）可在維持 ＺｒＢ２ 高溫穩(wěn)定性的同時改善涂層的高溫舒緩反應性能。       至于其應用領域，主要集中在半導體產業(yè)、平板顯示產業(yè)（含觸摸屏產業(yè)）以及太陽能電池產業(yè)。濺射靶材屬于電子材料，其產業(yè)鏈上下游關系如下：相關上市公司國內濺射靶材行業(yè)起步較晚，經過多年的科技攻關和產業(yè)化應用，目前國內高純?yōu)R射靶材生產企業(yè)已經逐漸打破關鍵技術門檻，打破了零的局面，擁有部分產品的規(guī)?；a能力，可以預見未來會達到高速發(fā)展時期。濺射靶材種類繁多，就ITO導電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產品生產環(huán)節(jié)需要使用靶材濺射鍍膜。用于高清電視、筆記本電腦等。平板顯示靶材技術要求也很高，它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。鋁、銅、鉬、鉻等，主要應用于薄膜太陽能電池。       作為重要的半導體、太陽能等鍍膜材料，年受益于大部分國家光伏產業(yè)、電子產業(yè)的快速發(fā)展，靶材產線投資處于較高水平。2014年以后，部分大部分國家知名平面靶材企業(yè)由于技術側重點不同，在發(fā)展中國家的投資力度下降，大部分國家靶材整體產能增長有所放緩，但仍處于平穩(wěn)狀態(tài)。中國濺射靶材行業(yè)競爭格局和市場化程度高純靶材。靶材的核心功能是作為沉積薄膜的濺射源，按材質可分為金屬靶、陶瓷靶與合金靶，其下游應用主要包括平板顯示器、半導體、光伏電池、記錄媒體等領域。根據世界半導體貿易統(tǒng)計協(xié)會2018年的數據，靶材應用領域中，面板市場占比大，達33.8%，其次是記錄媒體，占比達到28.6%，光伏電池占18.5%，半導體規(guī)模目前僅有11.4%。       進一步：噴涂了CuSe堆積層的基體外表面包裹一層防滲漏材料，在冷等靜壓機中高壓處理，壓力不超過1000MPa。進一步：在氣氛保護爐中，保護氣體為氬氣或氮氣，高溫燒結獲取的旋轉靶材毛坯，溫度100～300℃，加熱處理5小時，靶材相對密度％～98％。噴射的時候可以采用熱噴涂和冷噴涂的主氣進行噴涂，便于有效地進行噴涂并去掉生產時的雜質。且在生產控制的過程中還可以采用放大鏡觀察判斷是否有雜質粉末殘留。此外，噴涂房在中途開啟過后，也可用噴涂機噴射惰性氣體噴洗噴涂房內的基管及周邊區(qū)域，并開啟過濾和排氣系統(tǒng)，進一步有效在生產過程中控制靶材的雜質。毋庸置疑，籠罩大部分國家半導體產業(yè)鏈條的陰霾短不會散去，而對于正處快速成長期的中國企業(yè)而言。       采用電弧噴涂技術制備金屬陶瓷復合涂層,將碳化硼(B4C)陶瓷粉末和其它合金元素與304L不銹鋼帶軋制成粉芯絲材，研究了B4C在電弧噴涂中的應用。鈦及鈦合金由于具有熔點高、無磁性、熱膨脹系數低、比強度和比剛度高以及耐腐蝕性能好、耐生物侵蝕等許多不錯特性。采用固相法，把粉末先用添加劑混合，放入模具用冷等靜壓等壓制成坯體后，用氣氛爐在高溫度燒結成型成氮化物靶材燒結體。半導體和面板比較2.6SEMI-CHINA幾個調研（1）某國內企業(yè)為什么不做半導體？半導體競爭激烈，客戶難以進去，我們也有部分，主要是一些非核心的比如和在面板都可以用到的銅鋁。面板市場現在也足夠大。（2）面板中所用靶材的比例？根據客戶的產品比如面板的世代或者工藝需求定。       大尺寸一體化鋁釹旋轉靶材及其制備方法，特別涉及一種大尺寸一體化鋁釹旋轉靶材的制備。真空熔煉和熱壓技術由于成分不均勻容易產生偏析，再加上靶材形狀受到限制，已經不能滿足靶材成分均勻、大尺寸一體化的要求。濺射靶材生產過程屬于有色金屬物理加工，生產過程中不涉及有毒有害原料和有毒有害“三廢”，國家對濺射靶材行業(yè)的研發(fā)、生產、銷售不存在特殊管制。采用超音速火焰(HVOF)和電弧噴涂技術制備金屬陶瓷/合金多層涂層。結果表明：涂層籌備為扁平層狀結構，涂層與基體、涂層與涂層之間結合緊密，涂層的磨損質量損失與載荷成正比;磨料的硬度較高時，涂層的磨損質量損失較大，與單層涂層相比,多層涂層在較高載荷作用下具有較好的抗磨損性能。