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硅靶材,多晶硅靶,單晶硅吧,真空噴涂硅靶

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細(xì)

濺射靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中,在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)。高純靶材主要用于對(duì)材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領(lǐng)域,像集成電路、平板顯示器、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的要求是比較高的,要求靶材純度很高,一般在5N(99.999%)以上。隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移,鍍膜期間隨之發(fā)展迅速,靶材是一種具有高附加值的特種電子材料,源極。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料,已得到巨大的發(fā)展,靶材市場(chǎng)規(guī)模日益膨脹。靶材稀土靶材(UVTM)詳細(xì)介紹鋱靶材廣泛用于半導(dǎo)體芯片、太陽能光伏、平面顯示、特種涂層、微納加工。 靶材的材料、形狀也會(huì)有所差異。根據(jù)形狀可分為長(正)方體形、圓柱體形、無規(guī)則形以及實(shí)心、空心靶材。靶材是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,故靶材也叫濺射靶材(純度:99.9%-99.999%),具有較高的技術(shù)壁壘。銀是目前使用廣泛的導(dǎo)電層薄膜材料之一。和超大規(guī)模集成電路芯片的制造對(duì)濺射靶材金屬純度的要求相比,太陽能電池用鋁靶的金屬純度略低,99.995%(4N5)以上。高純貨品靶材被譽(yù)為半導(dǎo)體芯片材料的強(qiáng)者,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高,隨著更大尺寸的硅晶圓片制造出來,相應(yīng)地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發(fā)展,同時(shí)也對(duì)濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。高純貨品靶材在電子信息產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用廣泛。

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